导电氧化处理后的氧化层要如何去除
如何去除
导电氧化处理后的氧化层?
喷砂处理:钛铸件一般采用白刚玉。喷砂压力小于非贵金属,一般控制在0.45MPa以下。当注射压力过高时,砂粒撞击钛表面产生强烈火花。温度升高会与钛表面发生反应,形成二次污染,影响钛表面质量。时间为15~30秒,只有表面的砂、烧结层、部分和导电氧化层。其余表面反应层结构应通过化学酸洗迅速去除。酸洗:酸洗能快速彻底去除表面反应层,不污染表面其他元素。hf-hcl和hf-hno3酸洗液均可用于钛酸洗,但hf-hcl酸洗液吸氢能力大,hf-hno3系统酸洗液吸氢能力小。控制硝酸浓度,降低吸氢量,抛光表面。一般来说,HF浓度约为3%~5%,HNO3浓度约为15%~30%。
化学抛光:金属化学介质中化学抛光导电氧化还原反应达到平整抛光的目的。该方法的优点是化学抛光与金属硬度无关,抛光面积与结构形状无关。所有与抛光液接触的零件都被抛光。它不需要特殊的复杂设备,操作简单。对结构复杂的钛义齿托槽进行抛光。但化学抛光的工艺参数难以控制,在不影响义齿精度的前提下,对义齿有很好的抛光效果。钛化学抛光液是HF和HNO3按一定比例混合使用的。HF是一种还原剂,能溶解钛,起到平整作用。硝酸浓度为10%。硝酸可以防止钛的过度溶解和吸氢,导电氧化可以产生光。抛光温度高,抛光时间短,抛光时间短(1分钟)。
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